轴向填充率渐变型二维光子晶体

作者：周建伟; 梁静秋; 梁中翥; 王维彪

来源：发光学报, 2012, (10): 1112-1119.

• 二维光子晶体
• 轴向填充率渐变
• 电化学腐蚀 two-dimensional photonic crystals
• axially filling-factor graded
• electrochemical etching

提出了一种轴向填充率渐变型二维三角晶格方空气孔光子晶体,由锥形孔周期性排布而成,在第三维也就是沿空气孔的轴向,空气孔的尺寸连续改变,实现了填充率渐变,填充率f范围为0.700～0.866。经过模拟,在归一化波长(λ/a)的1.43～2.71和3.41～4.00波段,轴向填充率渐变型光子晶体可以将光向填充率小的方向偏折,具有选光功能。采用电化学腐蚀与MEMS工艺相结合的方式,在p型(100)硅基底上制作了轴向填充率渐变型二维三角晶格方孔光子晶体,整个孔的填充率f在0.800～0.866范围内。

• 单位
  中国科学院大学; 应用光学国家重点实验室; 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所