电解抛光工艺对工业纯钛表面特性的影响

作者：关新兴; 卢磊; 钟政烨^*

来源：电镀与涂饰, 2019, 38(09): 426-430.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2019.09.005

• 工业纯钛
• 退孪晶变形
• 电解抛光
• 电子背散射衍射
• 数字图像相关

选用高氯酸与甲醇混合溶液作为电解液,在-32℃下对预压缩工业纯钛电解抛光3 min。探讨了电解抛光电压和电流密度对纯钛表面特性的影响。采用基于扫描电镜的电子背散射衍射(EBSD)和数字图像相关(DIC)原位法,研究了预压缩工业纯钛中的退孪晶变形。当电解抛光电压和电流密度分别为16 V和8.3～9.3 mA/mm2时,EBSD花样标定率和DIC相关性均最好。工业纯钛退孪晶变形表现为较大尺寸孪晶的侧向变窄,部分小尺寸孪晶消失,孪晶附近应变集中。

• 单位
  西南交通大学