摘要

<正>5)40 nm网版印刷作业的开始在用网版印刷工艺制备的聚合物光伏电池的工业化生产的过程中,通常制备的光电子功能性印料(如电池给体光伏印料和电池受体光伏印料)的厚度(淀积的膜厚),例如柔性聚合物光伏电池所需的活性层厚度在100~200 nm。国外专家使用丝网丝径为30μm、丝网目数181目/cm的网版,利用网版印刷工艺制备了厚度仅为40 nm的超薄、光滑、平整的聚合物薄膜(膜层),薄膜的表面粗糙度2.6 nm,其器件结构为玻璃/ITO/PEDOT:PSS/活性层/AI,器件的活性面积为