不同氧化物衬底上高质量GaN薄膜的外延生长

作者：李国强; 管云芳; 高芳亮

来源：半导体技术, 2013, (10): 721-728.

• 氧化物衬底
• LiGaO2
• MgAl2O4
• LaAlO3
• GaN薄膜 oxide substrate
• GaN film

通过对比蓝宝石(Al2O3),SiC,Si,ZnO衬底与三种非常规氧化物衬底即LiGaO2,MgAl2O4和LaAlO3衬底上外延生长GaN薄膜的优缺点,指出了在这几种氧化物衬底上生长GaN薄膜所具有的独特优势;针对氧化物衬底上生长GaN薄膜的问题,提出了相应的解决方法,进而明确指出了研究非常规氧化物衬底的重要意义。在此基础上,详细介绍了在三种氧化物衬底上生长高质量GaN薄膜的方法及研究进展,为高晶体质量GaN薄膜的生长及Ⅲ族氮化物半导体器件的应用研究、特别是基于非常规氧化物衬底的研究起到很好的指导意义。

• 单位
  发光材料与器件国家重点实验室; 材料科学与工程学院; 华南理工大学