有机溶剂在P型宏多孔硅电化学腐蚀中的应用研究

作者：陈平; 焦继伟; 葛道晗; 王跃林

来源：传感器与微系统, 2011, (11): 69-71.

DOI：10.13873/j.1000-97872011.11.004

• 多孔硅
• 微机电系统
• 有机溶剂
• 快速腐蚀 porous silicon
• MEMS
• organic solvent
• fast etching

近年来,多孔硅以其良好的光学、热学、电学以及机械特性使其在微传感器技术领域得到广泛的应用,电化学腐蚀多孔硅的各种方法与原理引起越来越多的关注。研究了P型硅的电化学腐蚀过程中,在腐蚀溶液中使用有机溶剂对多孔硅的制备、速率、成孔机理等方面的影响。研究发现,在分别使用有机溶剂二甲基甲酰胺(DMF)和二甲基亚砜(DMSO)的氢氟酸(HF)腐蚀溶液中,可以制备出孔壁光滑、具有高深宽比的高质量P型宏多孔硅,并发现了一种快速腐蚀P型宏多孔硅的方法,得到高达1900μm/h的腐蚀速率,这有助于提高多孔硅在微传感器批量化生产应用中的效率。在涌流模型基础上,分析了有机溶剂的氧化性和质子(H)提供能力,以及在P型多...

• 单位
  传感技术国家重点实验室; 中国科学院上海微系统与信息技术研究所; 中国科学院研究生院