CVD样品台旋转对沉积金刚石涂层的影响

作者:邓福铭; 薄祥; 许晨阳; 郝岑; 王双; 郭振海; 解亚娟
来源:人工晶体学报, 2019, 48(10): 1879-1885.
DOI:10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2019.10.017

摘要

以CH3COCH3和H2为反应气源,利用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法,通过改变样品台的旋转频率在YG6硬质合金(WC-6wt%Co)基体上沉积金刚石涂层。利用X射线衍射分析YG6硬质合金表面沉积金刚石涂层物相,通过扫描电子显微镜和压痕试验机分析金刚石涂层的表面形貌、沉积厚度和膜基结合性能,考察了样品台旋转频率对沉积金刚石涂层结构与性能的影响,以确定最佳的样品台旋转频率。结果表明,在固定沉积工艺参数条件下,当样品台的旋转频率为2次/h时,在YG6硬质合金基体上沉积的金刚石涂层具有较优的晶粒和更均匀致密的聚晶结构以及更高的膜-基结合力。