微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层的制备及影响因素

作者：张陈扬; 刘慧丛; 韩东晓; 朱立群; 李卫平^*

来源：中国腐蚀与防护学报, 2021, 41(05): 579-584.

• 碳化硅-镍基复合材料
• 碳化硅改性
• 镍基合金电沉积
• 碳化硅含量

对微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层用作代铬镀层进行了研究。采用恒电流沉积的方法在钢片上成功制备了微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层。采用单因素实验分别讨论电镀液组成对镀层宏观形貌、微观形貌、复合量、硬度等的影响,获得硬度(HV)为646.11的微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层;研究了不同表面处理的微米级SiC对镀层形貌及微粒复合量的影响,结果显示,表面强负电性的微米级SiC参与电镀得到的微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层,表面微裂纹少且更加平整无孔隙,微粒含量较表面带正电性和弱电性的SiC更高。探究了微米级SiC通过电沉积的方式进入镀层的过程及界面行为,解释了微米级碳化硅表面处理对其进入镀层的影响。

• 单位
  北京航空航天大学