磁控溅射法La_(0.5)Ca_(0.5)Mn_xTi_(1-x)O_3薄膜的制备与结构研究

作者：杜丕一; 孟津; 周雪梅; 翁文剑; 韩高荣

来源：浙江大学学报(工学版), 2005, (07): 1077-1081.

• 钙钛矿相
• 复铁电性
• 薄膜
• 磁控溅射 <Keyword>perovskite phase
• multi-ferroelectric
• thin film
• magnetocontrolled sputtering

利用射频磁控溅射法结合后期热处理,在Si(100)基板上以不同的工艺条件成功制备了La0.5Ca0.5MnxTi1-xO3(LCMTO)复铁电性磁电子薄膜.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、电子衍射能谱(EDS)等手段对薄膜进行了相的形成、结构特性及薄膜组成等的测试.研究表明,薄膜在600℃以上开始析晶,850℃以上结晶完成,形成正交晶系钙钛矿相.硅基板上的LCMTO薄膜在不同温度下析出晶相的晶格常数不同,温度越高,晶相的晶格常数越大;薄膜厚度越大,晶格常数相对较小;在薄膜制备时提高氧分压,形成氧空位浓度低的完整晶相,Si基板上LCMTO薄膜的晶格常数相对较小.

• 单位
  浙江大学; 硅材料国家重点实验室