纳米结构PZT铁电膜的制备及其表征

作者：朱信华; 宋晔; 杭启明; 朱健民; 周舜华; 刘治国

来源：功能材料, 2010, (11): 1959-1962.

• PZT
• 纳米结构
• 铁电膜
• 制备
• 物性及微结构表征 PZT
• nanostructures
• ferroelectric films
• fabrication
• physical property and microstructural characterization

采用溶胶-凝胶(sol-gel)自旋涂敷法在硅基氧化铝纳米有序孔膜版介质上(膜版孔径尺寸20～100nm,内生长金属纳米线作为底电极一部分)制备Pb(Zr0.53Ti0.47)O3(PZT)纳米结构铁电膜,并对其介电、铁电性能及微结构进行了表征。介电测量结果表明,厚度25nm的PZT铁电膜,其介电常数在低频区域(频率<104Hz)从860迅速下降到100,然后保持在100左右,直至测量频率升高到106Hz。低频区域的介电常数迅速下降是由空间电荷极化所致,它与薄膜和电极之间聚集的界面空间电荷密切相关,尤其是在薄膜与Au纳米线的弯曲界面处。介电损耗在4000Hz附近出现峰值,它来源于空间电荷的共振...

• 单位
  固体微结构物理国家重点实验室; 南京大学; 物理学院