摘要
针对大高宽比微结构显影过程中由显影液的对流传质严重受限、光刻胶层厚、显影时间长带来的显影不均匀问题,提出了基于翘板式摇床辅助的显影方法。利用有限元法模拟了摇床工作时整个样品表面的流场分布以及显影液在不同高宽比微结构光栅表面的流场分布。模拟结果表明,通过摇床摆动可以实现显影液均匀流动。然后,提出了快速的显影参数确定方法,并通过实验给出了沟槽深宽比和显影速率之间的关系,提供了可参考的显影工艺参数,并验证了工艺参数的合理性。在显影时间为10~12 min,显影速率为0.21~0.23 m/s,沟槽深宽比为2.5,光刻胶厚度为200μm的光栅的显影均匀性优于96%。该方法可以实现大高宽比微结构的均匀显影,满足高质量大高宽比光栅的制作要求。
- 单位