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摘要
以抗生素中典型的氯霉素（CAP）作为研究对象,探讨了紫外/一氯胺（UV/NH2Cl）高级氧化技术降解CAP的反应动力学、影响因素和消毒副产物生成情况。结果表明,对比单独UV工艺及UV/NH2Cl高级氧化技术,NH2Cl的加入可以明显提高CAP的降解速度,假一级动力学降解速率常数可达0.017 2 min-1。提升NH2Cl浓度可以促进CAP的降解,然而随着pH值的增加,对CAP的降解率呈现先增加后降低的趋势,在pH值为7时降解率最大。此外,在UV/NH2Cl体系中,水中的无机阴离子（Cl-、Br-、HCO-3）及天然有机物（NOM）的存在均会对CAP的降解起到不同程度的抑制作用。在消毒副产物的生成方面,相比单独的NH2Cl预氧化方式,UV/NH2Cl预氧化会降低后续氯胺消毒过程中三氯硝基甲烷、二氯乙腈、二氯乙酰胺和三氯乙酰胺的产生。
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