硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2的表面改性及其分散稳定性

作者：苏瑞彩; 李文芳; 彭继华; 杜军

来源：化工进展, 2009, 28(9): 1596-1599.

DOI：10.3321/j.issn:1000-6613.2009.09.021

• 纳米SiO2
• 表面改性
• 硅烷偶联剂
• 分散

采用硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2实现表面改性,并利用透射电镜(TEM)、粒径分析、Zeta电位、红外光谱(FTIR)等方法对改性后纳米SiO2的表面结构和在有机介质中的分散稳定性进行分析表征.结果表明,通过硅烷偶联剂KH570表面改性后,颗粒表面覆盖了硅烷偶联剂的有机官能团,提高了SiO2纳米颗粒在水溶液中的Zeta电位,降低了颗粒团聚程度.改性后的纳米SiO2粉体在有机溶剂中的团聚块体尺寸明显减小,从200 nm降低到不足100nm.

• 单位
  华南理工大学