以玉米优势腐败菌黄曲霉为试验对象,采用低温等离子体技术对污染黄曲霉菌的玉米籽粒进行处理,研究不同等离子体处理功率、处理时间和真空度对黄曲霉杀菌效果的影响。结果表明,杀菌最佳工艺为:等离子体处理功率447W、等离子体处理时间160s、真空度80Pa;在此条件下,等离子体对黄曲霉的杀菌率为85.42%。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
