太阳能的规模化利用是解决当今全球能源短缺的重要途径。CdTe作为公认的高效、廉价的薄膜电池材料受到重视，文章介绍了射频磁控溅射法，总结了射频磁控溅射法制备的影响因素，包括溅射频率、脉冲偏压、沉积时间与射频功率、衬底靶距、衬底温度及沉积气氛等，以期为太阳能规模化利用提供助力，为薄膜电池材料的发展添砖加瓦。
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