沉积工艺参数对电弧离子镀薄膜沉积速率影响的研究进展

作者：赵彦辉; 史文博; 刘忠海; 赵升升; 王铁钢; 于宝海

来源：真空与低温, 2020, 26(05): 385-391.

DOI：10.3969/j.issn.1006-7086.2020.05.005

• 电弧离子镀
• 沉积速率
• 磁场
• 辅助阳极

阴极电弧离子镀技术作为工业应用最多的真空镀膜技术之一,近年来得到了长足发展。但是仍存在一些技术问题尚未完全解决,如大颗粒污染、所沉积的薄膜残余应力大、不能实现低温沉积等。另一方面,电弧离子镀的沉积效率仍有待提高,尽管与同属物理气相沉积(PVD)技术的磁控溅射相比,拥有较高的沉积速率,但对于沉积厚膜(厚度超过20μm甚至50μm)而言,其通常的沉积速率(一般在1～10μm/h内)较低,仍需要较长时间。针对这一问题,总结了不同沉积工艺参数对沉积速率的影响,综述了近年来电弧离子镀技术在提高沉积速率方面的研究进展,以期对该技术的发展提供一定的技术支持。

• 单位
  中国科学院金属研究所; 天津职业技术师范大学; 深圳职业技术学院