气氛氧压对PLD法生长Nd∶LuVO_4薄膜的性能影响

作者：王晓霞; 李红霞; 张怀金; 王继扬; 沈明荣; 方亮; 宁兆元

来源：中国稀土学报, 2005, (04): 455-458.

• 脉冲激光沉积
• Nd∶LuVO4
• 薄膜
• 氧分压
• 稀土 pulsed laser deposition
• Nd∶LuVO_4 films
• oxygen pressure
• rare earths

采用脉冲激光沉积技术在不同气氛和氧分压下,在抛光石英片上生长了一系列(200)面择优取向的Nd∶LuVO4薄膜。利用X射线衍射(XRD)分析了所制备薄膜性能,认为成膜较为适宜的气氛为氧气,且氧分压为20Pa时所得到的薄膜性能较好。利用原子力显微镜(AFM)观察了Nd∶LuVO4薄膜的表面形貌,分析了氧分压的存在对薄膜表面质量的影响。利用卢瑟福背散射(RBS)分析了薄膜的组成,发现薄膜的成分组成与靶材的成分较为一致。利用棱镜耦合法测得了该薄膜中每条模所对应的有效折射率为2.0044和1.7098。

• 单位
  晶体材料国家重点实验室; 山东大学