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摘要
本文提出和研究了利用超分辨缩小成像平板超透镜,在i线光源波长下实现纳米尺度光刻方法。为了在超分辨透镜像面位置获得高质量的光刻图形,采用超分辨透镜-光刻胶-反射银膜的结构方式,解决由于超透镜磁场偏振传输模式带来的成像光场畸变问题,大大提高了成像质量和光场对比度。采用掩模图形结构预补偿的方法,消除超分辨透镜的倍率畸变像差影响。基于有限元电磁计算方法,数值模拟结果验证了该方法在i线光源波长下实现纳米尺度缩小成像光刻的可能性。在i线(365nm)光源波长下,得到约35nm线宽的高对比成像光场模拟结果,并分析了结构参数变化对成像光场带来的影响。
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单位中国科学院光电技术研究所; 中国科学院研究生院; 微细加工光学技术国家重点实验室
