磁控溅射带电粒子的运动分布以及靶面刻蚀形貌的研究

作者：于贺; 王涛; 吴志明; 蒋亚东; 姜晶; 靖红军

来源：真空, 2009, (05): 14-17.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2009.05.011

• 粒子模拟
• 磁控溅射
• 电磁场分布
• 刻蚀形貌 simulation
• discharge particles
• magnetron sputtering
• electromagnetic field distribution
• etched profile

首先使用有限元分析方法求解磁控溅射电磁场的分布,然后结合受力分析,仿真了单电子运动轨迹并较好地呈现螺旋形状,同时模拟出多粒子束的靶面位置分布以及刻蚀形貌图,最后把计算结果与实验中靶面刻蚀形貌进行对比,所求结果与实验测量数据吻合。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 光电信息学院