公转结构电子束蒸发成膜的膜厚误差研究

作者：鲍刚华^*; 王奔; 谢雨江; 梁玉

来源：激光与光电子学进展, 2021, 58(11): 376-380.

• 薄膜
• 光学薄膜
• 电子束蒸发
• 镀膜机设计
• 膜厚误差

对公转结构电子束蒸发镀膜机的膜厚误差进行研究。提出一种基于非余弦膜厚分布理论的膜厚误差分析方法,并用数学方法对膜厚误差的分布进行表征。膜厚误差是基板表面位置的函数,不仅与镀膜工艺参数有关,还与蒸发源和基板之间的空间结构配置有关。理论分析表明,电子束蒸发源偏离工件盘公转轴,是引起膜厚误差的根本原因。在直径为2700 mm的镀膜机上镀制了三层介质膜,利用光谱反演膜厚误差,其结果与膜厚误差分布理论分析结果一致。