CFETR辉光放电清洗的均匀性研究

作者:常君怡; 杨庆喜*; 陈仕琳; 宋云涛
来源:真空科学与技术学报, 2020, 40(10): 926-931.
DOI:10.13922/j.cnki.cjovst.2020.10.06

摘要

为研究壁表面离子流分布均匀性,设计高效率中国聚变工程实验堆辉光放电清洗(GDC)装置,采用流体模型对氦气辉光放电清洗进行等效二维模拟。阳极区域存在较强的局部电离,使得靠近阳极的第一壁受到更强烈的离子轰击;增加阳极电流该区域离子流密度显著增加,而放电清洗的均匀性并无提高;适当降低放电气压放电不均匀性得到较大改善;内壁电流密度略大于外壁电流密度,而电极径向位置对内外壁电流密度分布影响甚微。分析了阳极电流与电极数目的合理取值,给出了合适的放电气压范围。

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