钼靶材变形量及热处理对薄膜微观组织及性能的影响

作者:刘仁智; 王快社; 孙院军
来源:粉末冶金技术, 2014, 32(05): 328-351.
DOI:10.19591/j.cnki.cn11-1974/tf.2014.05.003

摘要

通过研究靶材变形量及热处理工艺对溅射薄膜的微观组织、表面粗糙度及晶形的影响,结果表明:变形量为80%的钼靶材溅射制备的薄膜晶化程度优于变形量小的靶材溅射薄膜;溅射相同的薄膜厚度,随着靶材变形量的增大,溅射薄膜的方阻越大;1 100℃退火靶材溅射薄膜的粗糙度最小,表面颗粒最细小均匀,晶粒取向明显。

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