磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积Ti-Si-N薄膜摩擦磨损性能对比研究

作者：马青松; 马胜利; 徐可为; 徐洮

来源：摩擦学学报, 2004, (05): 415-419.

DOI：10.16078/j.tribology.2004.05.007

• 磁控溅射
• 脉冲直流化学气相沉积(PCVD)
• Ti-Si-N薄膜
• 摩擦磨损性能 magnetically controlled sputtering
• pulsed chemical vapor deposition (PCVD)
• Ti-Si-N coatings
• tribological behavior

分别利用磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积(PCVD)技术制备了Ti-Si-N薄膜,测定了2种Ti-Si-N薄膜的显微硬度,并采用球-盘式高温摩擦磨损试验机对比考察了其高温摩擦磨损性能.结果表明,当薄膜中Si含量(原子分数)约为10%时,2种薄膜的显微硬度达到最大值;2种Ti-Si-N薄膜的耐磨性能同其硬度之间不存在对应关系,其中采用PCVD方法制备的Ti-Si-N薄膜的高温抗磨性能较优;2种薄膜在高温下的摩擦系数均有所降低,这归因于高温下氧化膜的润滑作用.

• 单位
  固体润滑国家重点实验室; 中国科学院兰州化学物理研究所; 西安交通大学; 金属材料强度国家重点实验室