利用(110)硅片制作体硅微光开关的工艺研究

作者：张龙; 董玮; 张歆东; 刘彩霞; 陈维友; 徐宝琨

来源：半导体学报, 2004, (01): 99-103.

• 微反射镜
• {111}面
• 湿法腐蚀
• 粗糙度
• 氢氧化钾溶液

采用基于湿法腐蚀工艺的体硅微机械加工方法 ,利用 (110 )硅片结晶学特性 ,通过光刻、反应离子刻蚀和湿法刻蚀等工艺 ,在硅片上同时制作出微光开关的微反射镜结构、悬臂梁结构、扭臂梁结构和光纤定位槽结构 ,器件的一致性好 ,制作工艺简单 .利用扇形定位区域 ,精确地沿 (110 )硅片的 { 111}面进行定向腐蚀 ,可使微反射镜镜面垂直度达到 90± 0 .3°,经测量表面粗糙度低于 6 nm.

• 单位
  吉林大学