准分子激光角膜上皮下磨镶术中应用丝裂霉素C预防Haze的早期临床观察

作者：付玲玲; 李桂芳; 张恒俊; 陈鑫

来源：国际眼科杂志, 2006, (06): 1472-1473.

• 准分子激光角膜上皮下磨镶术
• 丝裂霉素C
• 上皮下浑浊

目的:探讨准分子激光角膜上皮下磨镶术中联合应用丝裂霉素C预防术后上皮下浑浊(Haze)的发生。方法:患者42例(84眼)分为A、B两组,A组右眼进行常规LASEK手术,不用丝裂霉素C;B组左眼常规LASEK手术+0.2g/L丝裂霉素C棉片于激光治疗区12～15s,术后随访6mo。结果:A组出现1级Haze18例,2级或以上Haze5例,Haze发生率55%;B组出现1级Haze7例,2级或以上Haze2例,Haze发生率21%,两组Haze发生率差异有统计学意义(P<0.001)。结论:LASEK手术中联合应用0.2g/L丝裂霉素C可降低Haze的发生率同时减轻Haze的程度,但是其更远期的疗效及副反应有待于进一步的观察。

• 单位
  克拉玛依市中心医院