一种高纯高致密细晶低氧钨靶材的制备方法

作者：陈伟文

来源：有色金属材料与工程, 2023, 44(02): 85.

<正>专利申请号：2022113995563公布号：CN115740452A申请日：2022.11.09公开日：2023.03.07申请人：有研亿金新材料（山东）有限公司；有研亿金新材料有限公司本发明属于磁控溅射靶材制造技术领域，公开了一种高纯高致密细晶低氧钨靶材的制备方法。以纯度大于5 N的W粉为原料，先通过真空热压烧结的方式获得相对密度为80%～90%的预成型钨靶坯。然后通过多道次小变形热轧的方式在预成型钨靶坯表面0.5～2.0 mm厚度的范围内形成相对密度为95%～99%的致密化表层，心部密度及组织状态仍保持不变。