粉末靶磁控溅射ZnO/Cu/ZnO的制备及表征

作者：李彤; 赵卓; 武俊生; 方方; 周艳文^*

来源：材料导报, 2022, 36(06): 74-77.

• 透明导电薄膜
• 粉末靶
• 射频磁控溅射
• 光电薄膜

室温下，采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶和铜(Cu)靶，在玻璃衬底上制备ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜。通过改变Cu层厚度，研究其对ZnO/Cu/ZnO薄膜光电性能的影响。结果表明：ZnO/Cu/ZnO表面相对平整，结晶程度较好，在可见光范围内，当Cu厚度为11 nm和14 nm时，ZnO/Cu/ZnO薄膜的最高透光率分别为79%和74%;当Cu厚度为14 nm时，其载流子浓度及带电粒子运动能力分别为4.85×1021cm-3和6.73 cm2·V-1·s-1。与ZnO/Ag/ZnO薄膜相比，ZnO/Cu/ZnO需要更厚的铜薄膜才能连续，而具有较薄Ag层的ZnO/Ag/ZnO有比ZnO/Cu/ZnO更优良的光电性能。

• 单位
  辽宁科技大学