等离子体基低能氮离子注入金属钛的耐点蚀性能

作者：杨旭; 夏飞; 朱雪梅

来源：大连交通大学学报, 2018, 39(05): 38-41.

DOI：10.13291/j.cnki.djdxac.2018.05.009

• 等离子体基低能氮离子注入
• 金属Ti
• 点蚀
• 电化学交流阻抗谱(EIS)

采用等离子体基低能氮离子注入技术对纯Ti试样进行表面处理,研究了氮离子注入改性层在3. 5%Na Cl溶液中的耐点蚀性能及钝化膜的稳定性.结果表明:等离子体基低能氮离子注入纯Ti试样表面形成了厚度约为2μm的Ti2N相改性层;在3. 5%Na Cl溶液中,与金属Ti相比,Ti2N相改性层电化学交流阻抗谱(EIS)的容抗弧直径及|Z|值增加,相位角平台变宽,利用等效电路Rs-(Rp//CPE)拟合的电极电阻由6. 44×104Ω·cm2增大至2. 26×105Ω·cm2,电极反应阻力增大,耐点蚀性能提高.随着浸泡时间的增加,Ti2N相改性层钝化膜电阻相近,皆保持在105Ω·cm2量级,呈现良好的稳定性.

• 单位
  大连交通大学