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摘要
文章介绍了一种提高微结构抗反射性能的方法。该方法将微图案转印在拉伸的柔性聚二甲基硅氧烷（PDMS）基底表面，转印完成后减小拉力，PDMS基底表面的微结构图案发生收缩获得新的微结构图案。扫描电子显微镜（SEM）图像显示，新的微结构图案的高宽比和密度随着柔性基底的伸长量的增大逐渐增加；光学性能测试证明，新的微结构图案的抗反射性能随着高宽比增大而提高；新的微结构图案的疏水性能随着柔性基底的伸长量增大而增强。
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单位电子工程学院; 温州大学
