化学刻蚀的光学元件面形修复

作者：项震; 侯晶; 聂传继; 许乔; 张清华; 王健; 李瑞洁

来源：光学精密工程, 2007, (07): 997-1001.

• 光学元器件
• 化学刻蚀
• 面形修复
• Marangoni界面效应
• 粗糙度 optical element
• wet-etch figuring
• surface form error repairing
• Marangoni effect
• roughness

采用化学加工方法对光学元器件进行面形加工,可以避免传统的抛光工艺带来的亚表面缺陷和表面污染。实验中利用Marangoni界面效应有效控制化学液的驻留时间和驻留面积,并通过数控系统实现编程控制加工,进行了面形修复实验,利用轮廓仪测量了加工前后的表面粗糙度。结果表明,采用拼接小去除量多次加工的方法,有效地降低了面形误差,面形值由1.32λ(λ=632 nm)减少到0.66λ,粗糙度基本维持不变。利用此实验装置使基片面形得到修复,避免了传统加工方式带来的亚表面缺陷等问题,有利于强激光系统的使用。

• 单位
  现代光学仪器国家重点实验室; 成都精密光学工程研究中心