利用 Fe3O4磁种对集成电路制造企业研磨废水进行絮凝法处理,具有较好的沉降效果。最佳处理实验条件为:系统 pH为 3.0 或 4.0、外加磁场强度为 0.20 T、Fe3O4磁性颗粒重复利用 2 次、Fe3O4投加量为 6 g,此时系统浊度和总硅去除率分别可达99.22%与 99.79%。江苏某集成电路制造企业采用 Fe3O4磁种絮凝法工艺对研磨废水进行处理,年运行费用可节约 40 万元,经济效益显著。