界面耦合法制备配位纳滤膜

作者：王乾; 王广睿; 赵寅; 孙世鹏^*

来源：膜科学与技术, 2021, 41(02): 1-8.

DOI：10.16159/j.cnki.issn1007-8924.2021.02.001

• 纳滤膜
• 配位膜
• 界面耦合
• 表面修饰

传统纳滤膜主要通过界面聚合法制备,其分离层与基膜之间的结合力为分子间作用力,较为薄弱.通过在分离层与基膜之间引入配位键,采用金属-有机配位技术在聚酰亚胺基膜上制备了具有纳滤性能的分离层.首先通过考察NaOH溶液的浓度和反应时间对于基膜形貌和基团的影响,优化基膜的修饰程度,确定最佳的NaOH溶液浓度为0.01 mol/L,修饰时间为9 min.然后通过Fe3+与Na+之间的置换将配位中心Fe3+引入基膜表面.最后考察不同金属配位中心与有机配体的比例对膜性能的影响,确定最优植酸与Fe3+的摩尔比为3∶7.制得的配位纳滤膜表面负电性与亲水性都得到增强.制得的膜对1 000 mg/L Na2SO4的截留率为85.6%,通量为53 L/(m2·h·MPa),对多种染料的截留率在99%以上,且具有较好的长期稳定性.

• 单位
  南京工业大学; 材料化学工程国家重点实验室