应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺

作者：李加东; 宣明; 吴一辉; 张平; 王淑荣; 刘永顺

来源：功能材料与器件学报, 2008, (02): 336-340.

• 光亮镀镍
• 微反射镜
• 微电镀
• 边缘效应 bright nickel plating
• micromirror
• micro-electroplating
• edge effect

研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺。分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应。通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/m in,表面平均粗糙度约为4.376nm。

• 单位
  中国科学院研究生院; 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 应用光学国家重点实验室