工艺参数对磁控溅射TiN膜结构的影响

作者：王槐乾; 姜宏伟; 王方标; 黄海亮; 左桂鸿; **; 郑友进^*

来源：电镀与精饰, 2019, 41(12): 20-24.

• 磁控溅射
• TiN
• 微观形貌

为研究工艺参数在磁控溅射中对TiN薄膜生长的影响,通过改变工艺参数使用直流磁控溅射设备在N2流量5 sccm,N2压强为5 Pa生长TiN薄膜。采用射频磁控溅射法在N2流量5 sccm、N2压强5 Pa等生长参数下,制备了TiN薄膜。采用电子扫描显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对样品进行了分析,结果显示样品具有纳米级TiN薄膜的基本特征。实验表明,气氛中过多Ti原子的存在,影响了Ti原子和N原子的结合,也不利于TiN薄膜的生长。

• 单位
  牡丹江师范学院