基于UV光照的圆片直接键合技术

作者:马沧海; 廖广兰; 史铁林; 汤自荣; 刘世元; 聂磊; 林晓辉
来源:Pan Tao Ti Hsueh Pao/chinese Journal of Semiconductors, 2008, (07): 1369-1372.

摘要

研究了UV辅助活化与湿化学清洗活化相结合的圆片直接键合技术,并利用红外测试系统、单轴拉伸测试仪和场发射扫描电子显微镜,结合恒温恒湿实验、高低温循环实验对键合质量进行了测试.结果表明,采用该技术可以实现较好的圆片直接键合,提高键合强度,控制合适的UV光照时间可以获得更高的强度,对键合硅片进行恒温恒湿和高低温交变循环处理后,硅片仍能保持较高的键合强度.因此,该工艺对于改进圆片直接键合技术是行之有效的,具有很大的应用潜力.

  • 单位
    数字制造装备与技术国家重点实验室; 武汉光电国家实验室; 华中科技大学