空位缺陷对单层MoS2力学性能的影响

作者：潘妍宏; 张铭^*; 林申晔; 崔艳雷; 张威

来源：材料科学与工程学报, 2019, 37(02): 238-243.

DOI：10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.02.014

• MoS2
• 空位缺陷
• 力学性能
• 分子动力学

利用经典分子动力学方法,通过对单层MoS2力学行为进行单轴拉伸仿真模拟,研究空位缺陷对结构力学性能的影响。结合第一性原理计算,初步探索了单层MoS2的宏观力学行为与其微观电子结构变化的关联影响。模拟结果表明:空位缺陷使单层MoS2的力学性能严重劣化,且其影响程度随空位缺陷类型的不同而存在差异,与VS相比,VS2对上述力学性能的影响更为显著,浓度为0.4%的VS及VS2缺陷可使MoS2断裂极限下降10%和23%,且降幅随缺陷浓度的增加而增加。此外,单轴拉伸与VS、VS2等空位缺陷的存在,均可显著降低单层MoS2的禁带宽度,这可能与拉伸和空位缺陷均能引起Mo-d和S-p轨道杂化强度与Mo-S键键强的减弱有关。

• 单位
  北京工业大学