直流热阴极PCVD法间歇生长模式制备透明金刚石膜

作者：彭鸿雁; 姜宏伟; 尹龙承; 黄海亮; **; 陈玉强

来源：真空, 2014, (1): 29-32.

DOI：10.3969/j.issn.1002-0322.2014.01.014

• 直流热阴极
• PCVD
• 间歇生长模式
• 透明金刚石膜

采用直流热阴极等离子体化学气相沉积（直流热阴极 PCVD）方法，通过金刚石膜的间歇生长过程，引入氮原子的作用，实现对非金刚石成份的刻蚀和金刚石膜的择优取向生长，在 CH4：N2：H2气氛下制备透明金刚石膜。金刚石膜的间歇式生长分为沉积阶段和刻蚀两个阶段，沉积阶段为20 min ，刻蚀阶段为1 min ，沉积和刻蚀通过温度的调节来实现，总的生长时间10 h；实验中主要改变的参数是 N2气比例，将N

• 单位
  牡丹江师范学院; 海南师范大学; 电子工程学院