粉末触媒合成柱真空烧结工艺的研究

作者:徐燕军; 柳成渊; 陈哲; 刘一波; 尹翔; 赵万林
来源:金刚石与磨料磨具工程, 2008, (04): 18-21.
DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2008.04.004

摘要

粉末触媒在雾化过程中容易氧化,水雾化粉末触媒氧含量一般在0.1%~0.4%,所以在合成金刚石前都必须对合成柱进行还原烧结处理,以降低其中的氧含量。本文通过对水雾化FeNi_(30)粉末触媒合成柱的真空烧结研究,发现还原过程为石墨直接还原和石墨气化反应共同作用;确定在烧结温度980℃时,保温8h可以基本还原其中的氧化物,保证合成出高品级金刚石。

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