采用化学气相沉积(CVD)法在难熔金属Mo表面制备厚约10 μm的HfO2涂层。通过HSC Chemistry软件从热力学角度探究CVD HfO2的反应过程，分析HfO2涂层的微观形貌、择优生长情况和纳米力学性能，测试涂层与基体的结合力及抗热震性。结果表明：HfO2涂层与基体结合良好，在经历25～2000 ℃，100次循环热震后涂层表面未出现宏观剥落；划痕法测定的涂层附着力约23 N；在2.5～5 μm波段，涂层表面平均发射率为0.48，将Mo在该波段的平均发射率提高了近5倍。
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