Cadence版图设计环境的建立及设计规则的验证

作者：王翠霞; 范学峰; 许维胜; 余有灵; 王子君

来源：现代电子技术, 2004, (15): 18-20.

• 工艺库
• 显示文件
• 设计规则验证
• 版图

对版图设计需要的工艺库 ( technology file)文件、显示 ( display)文件的书写进行了详细分析 ,并对设计规则验证 ( DRC)中遇到的问题进行了解释

• 单位
  同济大学