氮气氛围下热处理的Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜的低温介电性能研究

作者：朱夏; 李亚巍; 沈育德; 褚君浩

来源：南通大学学报(自然科学版), 2013, (02): 72-77.

• 氮气氛围
• 热处理
• Na0.5Bi0.5TiO3薄膜
• 低温介电性能 N2atmosphere
• heat treatment
• NBT thin film
• dielectric relaxation
• low temperature dielectric property

采用溶胶凝胶法在LiNaO3(LNO)衬底上制备Na0.5Bi0.5TiO3(NBT)薄膜.部分NBT薄膜在氮气氛围下进行了热处理,记为NBT-N2.在100～400 K的温度范围内,测量了NBT-N2的介电性能.NBT-N2薄膜的介电频谱中出现了损耗峰,存在弛豫现象.利用Arrhenius公式拟合弛豫所对应的激活能,发现在NBT-N2薄膜中存在2个热激活过程:一个对应氧空位电离引入的极化子的跳跃跃迁;另一个对应导电电子与偏离氧八面体中心的Ti离子之间的耦合.此外,采用复阻抗谱分析了NBT-N2薄膜中的介电弛豫过程,在测试温度范围内,随着温度的升高,该弛豫过程逐渐趋向于理想的德拜模型.

• 单位
  中国科学院上海技术物理研究所; 华东师范大学