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摘要
为了解决光学元件表面的颗粒污染问题,在单发次激光干式清洗的基础上,提出了气流置换系统辅助的激光清洗方法,使用波长为355nm的Nd∶YAG激光器,针对镀溶胶-凝胶SiO2薄膜熔石英光学表面粒径为1μm～50μm的典型SiO2颗粒污染物,进行了理论分析和清洗实验,取得了可用于激光清洗的工艺参量。结果表明,对于镀溶胶-凝胶膜熔石英样品的单发激光干式清洗,最佳激光能量密度为2.29J/cm2,与未镀膜石英的激光清洗工艺参量存在一定差异;在最佳工艺参量下,单发次激光清洗对于粒径1μm以上的SiO2颗粒清洗效果明显,移除率可达82.96%;当污染密度过高时会导致清洗效果的减弱及对基底的损伤,而气流置换系统辅助的激光清洗方法可进一步增强对光学表面颗粒污染的去除效果。该研究对大型高功率固体激光装置中的光学元件在线清洗及清洗装备的设计具有重要的研究意义与实用价值。
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单位物理学院; 中国工程物理研究院激光聚变研究中心; 电子科技大学
