中红外高反膜的激光热场分析

作者：王颖; 章岳光; 刘旭; 顾培夫; 厉以宇; 李明宇

来源：光学仪器, 2006, (04): 22-26.

DOI：10.3969/j.issn.1005-5630.2006.04.005

• 高斯光
• 中红外
• 光学薄膜
• 热过程
• 数值计算 Gaussian beam
• mid-infrared
• optical thin films
• thermal process
• numerical analysis

为了分析薄膜内部激光引起的电热场效应,提出了一种模拟锥形高斯光入射多层介质薄膜后电场和热场分布的方法。该方法能够分析薄膜中高斯光各个角谱分量叠加形成的电场的分布,进而得到由于薄膜本征吸收产生的热量沉积以及薄膜内部的温度场分布。针对三种中心波长为4.3μm高反膜进行了分析,比较了激光垂直入射和斜入射两种不同工作方式的全介质高反膜系以及金属加介质高反膜系的温度峰值,结果表明全介质高反膜的温度峰值明显低于金属加介质膜系。

• 单位
  浙江大学; 现代光学仪器国家重点实验室