摘要

以十三氟辛基三乙氧基硅烷(FAS)为硅源,采用水解缩合法对片状FeSiAl吸收剂粒子进行表面接枝包覆,对片状FeSiAl粒子表面包覆前后的微观结构、包覆层成分、静磁性能和电磁性能进行了表征。结果表明:FAS成功地接枝在片状FeSiAl粒子表面形成薄层致密包覆层,包覆后的粒子仍保持较好的软磁性能。由于包覆层的电绝缘及低极化特性,吸收剂的介电常数可降低40%,而磁导率不受影响,从而使材料的阻抗匹配显著提升。当FAS的质量分数为3%,吸收剂的填充质量分数为76%的复合材料是3 mm厚度时,其反射损耗RL小于-3 dB时的吸收带宽从1.206 GHz (0.147~1.353 GHz)增加到1.922 GHz (0.147~2.069 GHz),最小损耗强度从-14.64 dB提升至-16.90 dB。

  • 单位
    生命科学学院; 材料复合新技术国家重点实验室; 武汉理工大学