拓荆科技，竞争与突围

作者：季生

来源：经理人, 2023, (06): 39-41.

<正>晶圆制造环节中三大核心设备分别是光刻、刻蚀、薄膜沉积，光刻机迟迟无法突破情况下，刻蚀与薄膜沉积设备率先完成了突破，作为薄膜沉积设备行业里的急先锋，拓荆科技在这场攻坚战中立下了汗马功劳。随着人工智能、新能源及5G的快速发展，芯片产业作为高科技产业代表的核心，已经成为当下经济至关重要的一环，然而，该领域的短板效应在国内却非常明显。由于复杂多变的国际环境以及西方国家技术封锁和制裁的影响，国内的芯片产业面临着巨大的挑战，科技发展速度受到了抑制。如何实现突破，已经成为现阶段急切解决的问题。