45nm芯片铜互连结构低k介质层热应力分析

作者：林琳; 王珺; 王磊; 张文奇

来源：半导体技术, 2017, 42(01): 55-60.

DOI：10.13290/j.cnki.bdtjs.2017.01.010

• 芯片封装交互作用(CPI)
• 有限元分析
• 低介电常数介质
• 子模型
• 热机械应力
• 45 nm芯片

采用铜互连工艺的先进芯片在封装过程中,铜互连结构中比较脆弱的低介电常数(k)介质层,容易因受到较高的热机械应力而发生失效破坏,出现芯片封装交互作用(CPI)影响问题。采用有限元子模型的方法,整体模型中引入等效层简化微小结构,对45 nm工艺芯片进行三维热应力分析。用该方法研究了芯片在倒装回流焊过程中,聚酰亚胺(PI)开口、铜柱直径、焊料高度和Ni层厚度对芯片Cu/低k互连结构低k介质层应力的影响。分析结果显示,互连结构中间层中低k介质受到的应力较大,易出现失效,与报道的实验结果一致;上述四个因素对芯片低k介质中应力影响程度的排序为:焊料高度>PI开口>铜柱直径>Ni层厚度。

• 单位
  华进半导体封装先导技术研发中心有限公司; 复旦大学