综述了半导体光催化剂发生光腐蚀的机理，并总结了抑制光腐蚀的策略，包括调控半导体光催化剂的晶粒大小、形貌结构、结晶度等物理性质，以及掺杂杂原子、构建异质结结构、半导体复合、与碳基材料耦合、调节反应条件等方面，旨在深入揭示光腐蚀的发生途径和作用原理，为有效解决半导体光催化剂的光腐蚀问题提供指导意见。最后，总结和展望未来光催化剂光腐蚀的抑制策略。
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