一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法

作者：杨刚; 吴晨枫; 郑春红; 李威威; 石峰

来源：2018-03-26, 中国, ZL201810253685.9.

一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法,用于有效的提高线路板光刻中基板的曝光处理速度。具体包括以下步骤：1、PC端读取BMP位图,并将读取到的图片发至数字微镜DMD控制设备；2、根据数字微镜DMD个数和分布情况,对BMP位图进行填补处理；3、计算每个DMD曝光停顿的关键点图片坐标信息,并存储至容器；4、将计算后的数据信息发送至DMD控制端；5、根据曝光停顿点位置控制数字微镜DMD移动并实现大面积曝光。本发明采用"盖章式"分布曝光,可以大幅度提高大面积图形曝光的曝光速率,采用HDMI进行图片传输,降低对投影设备内存的要求,节省成本,同时使得曝光时长更容易控制。

• 单位
  西安电子科技大学