科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
将含氨分子的氨水(NH3·H2O)、碳酸铵((NH4)2CO3)和碳酸氢铵(NH4HCO3)作为插层工质，通过搅拌和超声分别使其插入石墨层间，施加外界热激励使插层工质发生分解，分解产生的气体压力克服石墨层间范德华力。此方法利用氨分子的“楔形结构”,实现了插层工质的物理插层，研究了3种插层工质对加热引起的石墨层间分离的影响。结果表明，NH3·H2O作为插层工质时，分离效果最好。此外，傅里叶红外光谱结果表明没有形成C≡N或CN键，这表示含氨分子的插层工质不与石墨进行化学反应，以物理方式插入石墨层间，形成边缘插层，并且高温加热处理后，插层工质受热分解可去除干净。
-
单位机电工程学院; 青岛科技大学
