分子印迹流动注射化学发光法测定盐酸强力霉素

作者：周艳梅; 张成丽; 雷建都; 马同森; 马光辉; 苏志国; 晁阳

来源：光谱学与光谱分析, 2009, 29(07): 1745-1749.

• 分子印迹聚合物
• 流动注射
• 化学发光
• 盐酸强力霉素

研究发现在碱性条件下,盐酸强力霉素对鲁米诺-铁氰化钾体系化学发光反应具有明显的增敏作用,据此建立了分子印迹-流动注射化学发光法定量分析盐酸强力霉素的新方法。以甲基丙烯酸为功能单体、乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂合成了盐酸强力霉素的分子印迹聚合物。以此分子印迹聚合物为分子识别物质,利用盐酸强力霉素-鲁米诺-铁氰化钾化学发光体系,结合流动注射化学发光分析技术,建立了测定盐酸强力霉素高选择性的分子印迹-流动注射化学发光分析方法。方法的线性范围为9.0×10-7~6.0×10-5g.mL-1,检出限为3.2×10-7g.mL-1。对6.0×10-6g.mL-1的盐酸强力霉素水溶液进行分析,9次平行测定的相对标准偏差为3.5%。利用此方法测定尿样和盐酸强力霉素药片中盐酸强力霉素的含量,结果令人满意。

• 单位
  河南大学; 化学化工学院; 生化工程国家重点实验室; 中国科学院过程工程研究所