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摘要
本文使用多靶磁控溅射镀膜方法，并结合自制一维位移挡板样品台，制备了基于二氧化钛和二氧化硅的可见光区线性渐变滤光片。使用商用分光光度计，并结合自制一维手动平移样品台，对样品进行了光谱表征。重点研究了退火温度和时间对线性渐变滤光片的透射光谱影响。所制备的样品的可工作光谱范围为510—700 nm，且样品上不同位置的透射光谱峰值与样品位置呈现良好的线性关系。在300℃下，经1个小时真空退火处理之后，样品的透射率得到显著提升，优于60%，表明退火处理可显著提升线性渐变滤光片的性能。
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单位南京邮电大学; 南京邮电大学通达学院
